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Influence of Al2O3 Atomic-Layer Deposition Temperature on Positive-Bias Instability of Metal/al2o3/β-Ga2o3 Capacitors

Atsushi Hiraiwa,Kiyotaka Horikawa,Hiroshi Kawarada,Motohisa Kado,Katsunori Danno

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B（2024）

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关键词
Atomic Layer Deposition
AI 理解论文
溯源树
样例
生成溯源树，研究论文发展脉络
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