大口径超薄基板双面溅射膜厚均匀性研究

可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板，在两面同时沉积制备而成，因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材，采用反应溅射镀膜的方法，从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹具遮挡角度三个方面分析膜厚均匀性的差异，采用对称膜系结构，实现红外截止滤光片上下表面薄膜应力平衡。最终制备的薄膜均匀性在300 mm范围内达到0.13%，基板翘曲度为0.085 mm，满足使用需求。