假臭草(Praxelis clematidea)染色体制片条件优化及核型对光照环境变化 的响应

本研究为验证假臭草 ( Praxelis clematidea ) 细胞核型特征与其生物入侵性之间的关系，以入侵海口的恶性杂草假臭草三种不同生境下获取种子所培养的根尖为实验材料，采用常规压片法进行体细胞制片，比较不同预处理时间和解离时间两个重要因素，筛选最优染色体制片条件。比较三种生境假臭草染色体数目和核型特征差异情况，探讨假臭草核型特征对光环境变化的响应。结果表明：先用 2 mmol/L 的 8 - 羟基喹啉溶液预处理 90 min ，再用 1 mol/L HCl ： 45% 的醋酸解离液处理 1 min 是最优的染色体制片处理条件。显微镜观察假臭草体细胞的染色体数目为 2n = 28 。在旷野、林缘和林中生境下的假臭草体细胞核型公式分别为 2n = 2x = 28 = 28sm ， 2n = 2x = 28 = 24sm + 4m 和 2n = 2x = 28 = 18sm+10m ，类型分别对应为 3A ， 2A 和 2A ，核型不对称系数分别对应为 69.02% ， 64.32% 和 65.28% ，属不对称类型。研究表明，假臭草核型特征受光环境的影响，高 ( 正常 ) 光照生境下假臭草核型进化程度较高，低光照生境条件下，假臭草核型进化程度较低，意味着在高光照生境条件下，假臭草具有更高的入侵性。这为假臭草的防控提供了细胞学依据。