氮化硅陶瓷连接的研究进展

Journal of Kunming University of Science and Technology(Natural Science Edition)(2023)

Cited 0|Views0
No score
Abstract
氮化硅陶瓷以其优良的抗弯强度、抗腐蚀、抗热震、抗氧化和尺寸稳定等性能,在航空航天、能源、冶金和半导体等领域表现出巨大的应用潜力和市场前景.然而,加工性差、界面难润湿等特点极大阻碍了氮化硅陶瓷的应用.为此,人们不断探索研究氮化硅陶瓷的连接,以期通过可靠的连接方法促进其应用发展与突破.本文综述了近年来氮化硅陶瓷连接的研究进展,指出当下氮化硅陶瓷连接的研究主要集中在调控界面结构和控制界面应力以提高连接强度,其中根据Si3N4陶瓷的特点,评述例举了固相扩散、部分瞬间液相扩散、金属钎焊和玻璃钎焊等方法在氮化硅陶瓷接头界面结构调控方面的研究进展,归纳总结了氮化硅陶瓷接头界面应力控制的研究现状,最后展望了今后氮化硅陶瓷连接的研究重点与方向,旨在为氮化硅陶瓷连接的研究提供参考.
More
Key words
silicon nitride ceramics,diffusion bonding,brazing,interface structure,interface stress,bonding strength
AI Read Science
Must-Reading Tree
Example
Generate MRT to find the research sequence of this paper
Chat Paper
Summary is being generated by the instructions you defined