二五混水平U型设计的Lee偏差下界
Journal of South-Central University for Nationalities(Natural Science Edition)（2023）
摘要
研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性,利用两种不同的新方法,即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界,并将它们综合成一个下界,同时以数值实例验证了该综合下界是紧的,且优于以往文献中的下界.
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