微米级双层复合结构的一步光刻制备技术

张登英 Zhang Dengying,朱林伟 Zhu Linwei,李伟任 Li Weiren,高鸿鹄 Gao Honghu,邢文强 Xing Wenqiang,姜潇桐 Jiang Xiaotong, 王军 Wang Jun,徐征 Xu Zheng

Acta Optica Sinica（2023）

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Abstract

设计了两种具有不同参数的光刻掩模版,利用光刻技术制备了两种微米级双层复合结构.研究了曝光能量对凹形缺口深度的影响,同时采用有限差分时域法分析了掩模版曝光时的光场分布情况,阐明了微米级双层复合结构形成的物理机理.实验结果表明:通过调整曝光能量的大小,能够有效地控制凹形缺口的深度.对8μm厚的AZ9260光刻胶来说,不高于160 mJ/cm2的曝光能量是制备出微米级双层复合结构的关键.该技术在制备微米尺寸的分层器件方面有着潜在的应用前景.

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