光刻机运动台控制方法研究进展
Laser & Optoelectronics Progress（2022）
摘要
光刻机是支撑集成电路芯片制程不断减小的关键设备,而高性能的光刻机需要高加速度和高精度的运动台作为支撑.为了达到光刻机的各项工作指标,高性能的运动台控制方法必不可少.本文针对光刻机运动台的主流控制方法进行了梳理和介绍,首先介绍了运动台的工作原理及基本控制架构,然后从前馈控制、反馈控制、冗余驱动/冗余测量等方面对运动台控制方法进行具体介绍,旨在为光刻机运动台控制方法的进一步发展提供参考.
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关键词
lithography machine,motion stage,feedforward control,feedback control
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