NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO MÀNG MỎNG CHỐNG PHẢN XẠ Ti-SiO2 CHO CÁC ỨNG DỤNG TRÊN TẤM PANEL PIN MẶT TRỜI

Trong bài báo này chúng tôi tập trung nghiên cứu và tổng hợp màng mỏng Ti-SiO2 cho ứng dụng làm màng chống phản xạ. Các màng Ti-SiO2 được chế tạo trên đế kính bằng phương pháp in gạt kết hợp với xử lý nhiệt. Các màng Ti-SiO2 thu được sau khi chế tạo là hỗn hợp nanocomposite của các hạt nano SiO2 và TiO2. Các kết quả thu được cho thấy hàm lượng Ti đã ảnh hưởng khá mạnh đến độ truyền qua cũng như đặc tính ưa nước của màng. Với sự thay đổi của tỷ lệ phần trăm Ti từ 7% đến 27%, độ truyền qua của kính phủ Ti-SiO2 tăng từ 90,2 lên 94,7%. Kính phủ màng chống phản xạ Ti-SiO2 có độ truyền qua cao nhất là 94,7% tại bước sóng 550 nm khi phần trăm Ti là 9% và bề dày màng là ~ 100 nm. Ngoài ra, các màng phủ Ti-SiO2 đều có tính chất ưa nước, với góc tiếp xúc nằm trong khoảng 4,2-59,8°. Các kết quả về độ truyền qua và đặc tính ưa nước cho thấy vật liệu Ti-SiO2 rất có tiềm năng cho ứng dụng làm lớp chống phản xạ trong các tấm panel pin năng lượng mặt trời.