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Rational Design of Si(B)Cn Microstructures Using Direct Photolithography of Patternable Preceramic Photoresists

Quentin Hanniet,Eddy Petit,Sylvie Calas-Etienne,Pascal Etienne,Karim Aissou,Christel Gervais,Philippe Miele,Benoit Charlot,Chrystelle Salameh

SSRN Electronic Journal（2022）

引用 9|浏览29

关键词

Preceramic photoresists,SiBCN,Photolithography,MEMS

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