KrF激光刻蚀制备300nm自支撑聚酰亚胺膜
Materials Review（2019）
摘要
本工作探讨了微纳米量级聚酰亚胺(PI)自支撑薄膜的制备.以4,4′-二氨基二苯醚(ODA)和均苯四甲酸二酐(PMDA)为单体合成聚酰胺酸(PAA)溶液.经热亚胺化后脱膜得到厚度为900 nm的自支撑PI薄膜.亚胺化程度用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)测试,表面形貌用透射式显微镜观测.结果显示,在低于250℃下制备的ZnO薄膜适合作为脱膜剂;采用KrF准分子激光对薄膜刻蚀,当能量密度为45 mJ/cm2时刻蚀110个脉冲,得到了表面平整且厚度为300 nm的自支撑PI薄膜.
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