磁控溅射沉积钌薄膜的微观结构及生长过程

SHEN Yue,YU Deng-de,WANG Shu-ming,XU Yan-ting,WANG Chuan-jun, SHI Chen-qi,WEN Ming,DU Feng-zhen

Precious Metals（2020）

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Abstract

采用射频磁控溅射,通过改变基底温度、溅射时间、基底形貌,制备不同参数的钌薄膜.结果表明,该工艺制备的钌薄膜均没有明显的择优取向.随着溅射温度的升高,薄膜的致密性不断提高,表面由平整向起伏型结构转变,晶粒尺寸出现先增大后减小的趋势.随着溅射时间的增加,晶粒尺寸小幅增加,晶粒由圆形状演变为致密的长条状.在表面形貌较平坦的基底上更易获得光滑而致密的钌薄膜.在此基础上,研究并讨论了不同基底形貌上钌薄膜的生长方式.

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