プラズマ酸化とプラズマ窒化を用いた、低消費電力 CMOS デバイス向け HfSiON ゲート絶縁膜の形成誠治 犬宮,克行 関根,祥子 丹羽,明生 金子,基之 佐藤,健 渡辺,大伸 福井,善己 鎌田,正人 小山,彰 西山,万里子 高柳,和弘 江口,祥隆 綱島openalex(2003)引用 0|浏览2暂无评分AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要