45nm CMOSアプリケーション毎の配線構造最適化のための設計コンセプト:ASIS(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)典明 小田, 裕則 井村, 尚由 川原,政由 田上, 浩之 國嶋, 修次 曽祢,貞之 大西,健太 山田,由美 角原,誠 関根, 善宏 林, 和良 上野siam international conference on data mining(2006)引用 0|浏览3暂无评分AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要