谷歌浏览器插件
订阅小程序
在清言上使用
VIPCreated with Sketch.

Comparative Study of ZrO2 and HfO2 as a High-k Dielectric for Amorphous InGaZnO Thin Film Transistors

Jae Chul Park,In-Tak Cho,Eou-Sik Cho,Dae Hwan Kim,Chan-Yong Jeong,Hyuck-In Kwon

Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics（2014）

引用 7|浏览1
暂无评分
关键词
ingazno,dielectric,zro<sub>2</sub>
AI 理解论文
溯源树
样例
生成溯源树，研究论文发展脉络
Chat Paper
正在生成论文摘要