NB-UVB对黑素细胞黑素合成相关基因表达的影响

目的:研究NB-UVB照射对黑素细胞的细胞活性、黑素合成、黑素合成相关基因表达的影响.方法:培养黑素细胞系PIG1,利用MTT法检测不同剂量NB-UVB(400、800、1200、1600、2000 mJ/cm2)照射后细胞的增殖率,采用NaOH裂解法测定细胞中的黑素含量,RT-PCR和Western blot方法检测UVB照射后12个黑素合成相关基因Tyr、Tyrp1、Tyrp2、OA1、MART-1、Pmel17、VAT-1、OCSP、syntenin、CHCHD3、flotillin-1、GPNMB的mRNA和蛋白的表达.结果:NB-UVB照射剂量在400、800、1200 mJ/cm2时,细胞活力无明显变化,照射剂量为1600、2000 mJ/cm2时细胞活力明显下降.NB-UVB照射剂量为400、800、1200 mJ/cm2时,随着照射剂量的增加,黑素的合成增加;NB-UVB照射后,12种黑素体蛋白中,Tyr、Tyrp2、GPNMB、Syntenin、MART-1的基因mRNA及蛋白表达显著升高.结论:UVB照射显著增加了黑素合成和相关基因的表达.