采用夹模上盘技术抛光锗窗

李祥芬, 耿朝红,谢启明,李林涛,应常宇,尹国良

New Technology & New Process(2021)

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摘要
锗窗是红外热成像系统的一个关键光学元件,随着热成像技术的发展,对锗窗的面形精度要求越来越高.传统胶盘上盘抛光技术,因粘接力导致锗窗下盘后发生变形,限制了锗窗面形精度的进一步提高.介绍了一种采用夹模上盘抛光锗窗的方法,夹模上盘依靠机械限位,将锗窗镶嵌到夹模中进行抛光,上盘时不需要任何粘接剂,从根本上避免了粘接上盘时锗窗所受的粘接力影响.与传统胶盘上盘抛光技术相比,夹模上盘减小了盘上、盘下锗窗面形的变化,缩短了上盘、下盘的时间,提高了加工效率.结果表明,对尺寸φ90 mm×5 mm、镀膜完工面形精度PV≤0.5λ(λ=632.8 nm)的锗窗,抛光下盘后面形PV值的平均变化量小于0.1光圈,这为镀膜完工后锗窗面形精度满足要求起着重要作用.
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