磷钨酸掺杂高比表面积g-C3N4催化剂的制备及其光催化性能

以三聚氰胺、磷钨酸(HPW)为原料SBA-15为模板剂,成功制备了HPW掺杂高比表面积g-C3 N4.采用傅里叶红外变换(FTIR)光谱、X射线衍射(XRD)光谱、X光电子能谱(XPS)、氮气吸附脱附(BET)、扫描电镜(SEM)、紫外可见(UV-Vis)漫反射光谱、荧光(PL)光谱进行表征.结果表明,比表面积的增加以及HPW的掺杂均能够提高催化剂的光催化性能,降低带隙能,降低光生电子-空穴的复合几率.以罗丹明B(RhB)为考察对象,对催化剂在氙灯照射下的催化活性以及稳定性进行考察.结果表明,HPW掺杂的高比表面积g-C3 N4催化活性最高,反应速率常数为0.0269 min-1,是块状g-C3 N4的13倍,且循环使用4次后的光降解活性几乎不变.以叔丁醇、对苯醌、乙二胺四乙酸二钠为自由基(·OH)、自由基(·O2-)和空穴(h+VB)的捕获剂,研究了光催化反应机理.