光学薄膜参数测量方法研究进展

研究测量速度更快、准确性更高的光学薄膜参数测量方法，快速准确测量各膜层的光学薄膜参数，对于高性能、高精度光学薄膜优化设计和工艺制备改进都具有指导作用。论文在分析光学薄膜参数测量方法研究必要性的基础上，介绍了目前发展的光学薄膜参数测量方法，并对各种测量方法的测量范围、精度、稳定性作了分析，综合比较了各种测量方法的优缺点和适用性，对不同类型的薄膜系统给出了最佳的光学薄膜参数测量方法。最后对光学薄膜参数测量方法的发展作了展望。