VO2薄膜的制备工艺研究

CHINA SCIENCE AND TECHNOLOGY ACHIEVEMENTS（2009）

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摘要

采用射频磁控溅射沉积方法,在加热衬底上溅射制备高价态的五氧化二钒(V2O5)薄膜,再结合气氛退火工艺制备VO2薄膜.系统分析了不同溅射工艺参数和退火工艺参数对VO2薄膜结构与光电性能的影响,得到制备VO2薄膜的最佳工艺参数.

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