雪上一枝蒿控释涂膜剂的制备研究

目的 用均匀设计结合释放模型分析,探讨雪上一枝蒿涂膜剂的最佳制剂工艺条件.方法 以制剂成型性指标和累积释药率评分为指标,采用均匀设计法考察药物、PVA、甘油、氮酮用量对制剂外观质量及释放药物性能的影响,用线性回归分析方法建立测评指标与考察因素间的数学模型,结合GLP算法与释放过程数学模型分析结果进行综合平衡,得到最佳制剂工艺条件.结果 确定最佳制剂工艺条件为药物5.0%,PVA 26.0%,甘油18.0%,氮酮5.0%.结论 雪上一枝蒿涂膜剂制备简单,质量可控,溶出过程符合非溶蚀型药物体系释放动力学O级模型,具有较好控释能力并达到预期释放目标.