3种高嵌体边缘适合性的比较研究

目的：研究不同材料对高嵌体边缘适合性的影响。方法选取1颗离体上颌第一磨牙行高嵌体牙体预备，双重印模法取模，翻制30个相同尺寸的超硬石膏代型。再将这30个代型分成3组分别制作钴铬瓷高嵌体、聚合瓷高嵌体和CAD/CAM全瓷高嵌体各10个，然后用树脂加强型玻璃离子将高嵌体与石膏代型粘固。将各标本沿近远中向剖开，每个标本选择7个典型位点在体视显微镜下观察并测量高嵌体与代型之间的间隙。结果钴铬瓷组的平均间隙值约（59.50±25.18）μm，聚合瓷组的平均间隙值约（48.06±17.58）μm，CAD/CAM全瓷组的平均间隙值约（58.37±21.28）μm，均在适合范围内。组间两两比较可见，全瓷组与钴铬瓷组间无统计学差异（P>0.05），两者均与聚合瓷组有统计学差异（P<0.05）。结论不同材料对高嵌体适合性有影响，3种材料均能满足高嵌体适合性要求，以聚合瓷高嵌体边缘适合性最佳。