氦气源低温大气压等离子体射流处理对离体牙本质黏接强度的影响

目的 研究氦气源低温大气压等离子体(non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP)射流处理对牙本质接触角及黏接强度的影响.方法 将10颗离体牙制备成30片1.5 mm厚的牙本质片,打磨清洗后NTAPP射流分别处理0(对照组),5,10,15,20 s,测量牙本质接触角.30颗离体牙去除牙合面牙釉质,暴露的牙本质打磨清洗后酸蚀15 s,NTAPP射流分别处理0(对照组),5,10,15,20 s,常规黏接进行微拉伸测试.对各处理组接触角及黏接强度进行统计分析.结果 对照组牙本质接触角均值为75.57°,经NTAPP处理后各组接触角均显著降低(P<0.05),各NTAPP处理组间差异无统计学意义(P>0.05).NTAPP射流处理0,5,10,15,20 s黏接强度分别为(36.38±3.28)MPa、(39.82±3.57)MPa、(41.85±1.88)MPa、(45.79±4.2)MPa、(33.51±2.59)MPa;与NTAPP处理0 s相比,处理10和15 s即刻牙本质黏接强度显著增加(P<0.05).结论 NTAPP处理可以显著改善牙本质表面的接触角及即刻牙本质黏接强度,黏接强度的大小与处理时间密切相关.