改进遗传算法在CMP终点检测的应用
Acta Metrologica Sinica（2020）
Abstract
提出了一种基于反射法的化学机械抛光(CMP)在线终点判定方法.首先通过改进的单纯形混合遗传算法(GA),对SiO2薄膜的膜厚与折射率进行了拟合,再以200 ～1 200 nm波段内反射率平均值作为特征值,得到了不同膜厚条件下的反射率平均值参照表.以实时反射率与预设膜厚反射率的差方和、特征值大小及其变化趋势这2个条件作为CMP终点判定条件.实验结果表明:混合算法拟合膜厚平均相对误差小于0.21％,折射率平均相对误差小于1.07％;特征值计算速度快,满足在线动态抛光的时间要求.
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