半球形基底镀膜膜厚均匀性理论分析
Chinese Journal of Vacuum Science and Technology（2014）
Abstract
对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究.首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半球面能够镀膜的区域.然后推算了半球表面沿通过球心竖直方向的轴转动后球面各位置处的膜厚方程,另外当蒸发源与球心的水平距离小于半球面半径时,存在一定区域无法镀膜,对该区域进行了理论计算.最后通过计算相对膜厚分析了半球表面膜层厚度分布情况.选择合适的蒸发源与基底间的几何配置可获得小范围内相对较为均匀的镀膜区域.该研究工作对半球面这种复杂的非平面基片上镀膜膜厚均匀性研究工作具有理论指导意义,同时对改善此种表面上的膜厚分布研究提供了相关的理论依据.
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