316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究

采用直流磁控溅射在316L不锈钢上制备了高质量的Al膜，并利用扫描电镜、X射线衍射仪分别对镀层的形貌和结构及应力进行了分析。结果表明，温度、溅射功率之间的合理配置才能制备致密性高、表面缺陷少的Al膜，较优工艺参数温度为170℃、溅射功率1400 W；温度比溅射功率更容易改善结晶度，当溅射功率高、基体温度低，薄膜趋向非晶态；制备的薄膜应力小，最大约为0．176 GPa，微结构对应力影响大。