机刻光栅复合基底对薄膜内应力的影响研究
Machinery Design & Manufacture（2020）
Abstract
机械刻划制备大尺寸中阶梯衍射光栅是亚微米级的成槽挤压过程,在薄膜成槽变形过程中应力的产生与分布会直接影响槽形质量.受限于实际加工及检测手段,无法对薄膜内应力进行有效研究与计算.通过建立无基底纯铝膜模型、仅存玻璃基底铝薄膜模型与具有玻璃—铬复合基底的真实铝薄膜等三种模型,采用有限元模拟压痕试验分析方法,对比分析受压区域应力分布情况,总结受压薄膜内应力分布规律.实验研究表明,"三明治"式复合基底有助于薄膜内竖直方向内部应力的分布优化.此研究创新了基底效应与薄膜内应力相互影响关系的研究方法,同时为机刻光栅制备工艺提供借鉴指导.
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