电压对TC4合金K2ZrF6–Na2SiO3–(NaPO3)6体系微弧氧化膜性能的影响

在K2ZrF6–Na2SiO3–(NaPO3)6电解液中研究了电压(420 ~ 510 V)对TC4合金表面微弧氧化(MAO)的影响.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)及拉伸试验机表征了膜层的微观形貌、相组织、元素组成和结合强度,用傅里叶变换红外光谱仪(FT–IR)测试了它们的红外发射率.结果表明:随着电压的升高,膜层厚度、粗糙度和结合强度均增大;膜层的主要相组成为TiO2,Si、Zr、P元素分别以SiO2、ZrO2、NaH2PO4与Na4P2O7的形式存在.膜层的红外发射率随电压增大而先升高后降低,在电压为480 V时达到最大值0.87,比420 V下所得膜层的红外发射率提高了7.4%.