不同温度硫化生长ZnS薄膜的性能
Electronic Components & Materials（2020）
摘要
采用磁控溅射方法在玻璃衬底上室温下沉积了Zn薄膜,接着将薄膜在硫蒸气和氩气氛中于200℃预热1 h,然后升温至250～500℃退火1 h.以XRD、SEM、EDS和紫外可见分光光度计对薄膜进行表征,并结合热力学计算结果研究了Zn薄膜硫化生长机理.Zn转变为ZnS的过程包括硫化反应以及S原子和Zn原子的扩散.研究还表明:第一步的200℃预热可在Zn薄膜表面形成ZnS,随后第二步退火的硫化温度对硫化薄膜光透过率、S/Zn摩尔比和结晶性都有明显影响;在大于或等于300℃的硫化温度下制备的ZnS薄膜在400～1100 nm范围光透过率高达约80％,带隙为3.54～3.60 eV,晶体结构为六方.
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