尼龙-66晶区/非晶区体结构红外光谱研究

在4000～600 cm-1的频率范围内,采用红外光谱技术研究了尼龙-66的分子结构.以尼龙-66的νNH和δNH-倍频为研究对象,采用三级红外光谱技术进一步开展了尼龙-66热稳定性的研究.实验发现,在303～393 K的温度范围内,尼龙-66的νNH对应的红外吸收频率出现了明显的蓝移现象.进一步开展了尼龙-66的νNH和δNH-倍频的二维红外光谱研究.实验发现:尼龙-66的νNH的红外吸收频率包括3320 cm-1(νNH-晶区)和3280 cm-1(νNH-非晶区),而随着测定温度的升高,尼龙-66的νNH红外吸收峰变化快慢顺序为3280 cm-1(νNH-非晶区)>3320 cm-1(νNH-晶区);研究了尼龙-66的δNH-倍频的二维红外光谱,实验发现:尼龙-66的δNH-倍频的红外吸收频率包括3085 cm-1(δNH-倍频-1)和3072 cm-1(δNH-倍频-2),而随着测定温度的升高,尼龙-66的δNH-倍频的红外吸收峰变化快慢顺序为3085 cm-1(δNH-倍频-1)>3072 cm-1(δNH-倍频-2).最后同时开展了尼龙-66的νNH/δNH-倍频二维红外光谱的研究,研究发现随着测定温度的升高,尼龙-66主要官能团红外吸收峰变化快慢顺序为:3280 cm-1(νNH-非晶区)>3085 cm-1(δNH-倍频-1)>3072 cm-1(δNH-倍频-2)>3320 cm-1(νNH-晶区).该项研究拓展了三级红外光谱技术在高分子工程材料(尼龙-66)结构及热稳定性方面的应用范围.