透绝缘层内窥透视集成电路法中Lock-in的应用

提出一种新的在扫描电子显微镜中非接触无损透过半导体和集成电路表面绝缘层显微内窥透视检测掩盖在其绝缘层下面的半导体的缺陷和集成电路微结构的检测法(简称透表法)和用此法所观测到的图像。同时，本文还介绍了在此新检测法中Lock-in的应用。