高分辨率4 096×96 TDI可见光CCD的研制

SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS（2005）

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摘要

采用硅工艺,实现了高分辨率4 096×96 TDI 可见光CCD设计及制作.本文介绍了高分辨率4 096×96 TDI可见光CCD的结构设计及制作,给出了测试结果.

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