半导体材料从10nm向5nm发展Raj Jammy, An Steegen, Chris HobbsApplications of IC(2014)引用 0|浏览0暂无评分摘要随着晶体管向10nm、7nm甚至更小尺寸的发展,半导体行业面临着真正的材料选择困扰。基板、沟道、栅和接触材料都迫切需要评估。对于10nm和7nm来说,高K值金属栅将占主导地位,但真正的挑战将是沟道本身。在10nm节点,锗(Ge)很可能成为沟道材料之一。更多AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要