高能电子成像暗场成像技术特性研究及改进方案
High Power Laser and Particle Beams（2019）
Abstract
基于EGS5与PARMELA模拟软件组成的高能电子成像系统,对暗场成像的模拟研究发现,通过调节光阑位置实现的暗场成像结果存在失真现象.针对该失真现象提出的改进方案,消除了暗场成像结果的失真.通过对40 MeV电子透射7～224μm的铝样品开展的成像模拟结果表明:40 MeV高能电子暗场成像技术在铝样品厚度小于25μm情况下具有明显的面密度分辨优势,且空间分辨率达到 μm量级,非常适用于高能量密度物质诊断.
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