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MOCVD反应室模拟仿真研究

Caiwang LUO,Fengwu CHEN,Xiaoliang GONG,Wei WEI,Wenjin CHENG

Equipment for Electronic Products Manufacturing（2019）

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Abstract
以MOCVD为研究对象,采用有限元方法研究了喷淋头进气压强、流量、载片盘转速及反应室出口压力对反应室内部流场的影响.结果 表明,气体流量及载片盘转速对反应室内部流场具有极大的影响.研究结果不仅为MOCVD工艺操作条件提供了有效的理论支撑,而且也为MOCVD喷淋头的设计提供了重要的参考依据.
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