微反射镜和光纤自对准V型槽的制作
MICROFABRICATION TECHNOLOGY（2002）
摘要
用纯KOH水溶液和KOH+IPA混合水溶液在(100)硅片上沿＜100＞方向上腐蚀所暴露的平面是不同的.纯KOH水溶液中总是能暴露与衬底垂直的{100}面,在KOH+IPA溶液中,随着KOH的浓度不同将暴露{110}和{100}面.使用KOH浓度为50%的KOH+IPA溶液,在(100)硅片上一次掩模制作微反射镜和光纤自对准V型槽,微镜的表面粗糙度低于10nm.
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