磁控溅射膜厚均匀性模拟软件的设计
COMPUTER APPLICATIONS AND SOFTWARE（2006）
Abstract
由于薄膜厚度均匀性是影响薄膜性能的一个重要因素,根据平面磁控溅射的实际情况,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型.该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面出射粒子的角分布、空间角以及粒子迁移过程中的碰撞等.对建立的模型进行了计算机模拟,并设计出了膜厚分布模拟软件.
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