多晶电池二次扩散工艺研究
Shanxi Chemical Industry（2018）
Abstract
多晶电池片生产线的烧焦片、色差片采取有效的二次生产工艺,可以有效提升产线合格率.针对烧焦、色差片进行二次清洗后出现不同的方阻值,优化并制定不同的二次扩散工艺.稳定方阻,提升其转化效率.实验结果表明:清洗后方阻为95Ω～120 Ω的硅片,扩散提高推进氧浓度;方阻为120Ω～150 Ω的硅片,采用794℃低温沉积,810℃高温推进,并延长推进时间;方阻大于150 Ω的硅片使用生产两步沉积两步扩散方法.三种不同情况下的扩散运行配方,高方阻值均可调整并稳定在生产要求范围内,并且转换效率与产线持平.
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