Adsorption Capacity of Metallic Thin Films after Bombarding by Low-Energy Ar$^{+}$ Ions

M. O. Vasylyev,S. I. Sidorenko,I. O. Kruhlov, D. I. Trubchaninova

Metallofizika I Noveishie Tekhnologii（2020）

引用 1|浏览14

暂无评分

摘要

УкраїнаУ даній роботі методом вторинної йонно-йонної емісії проаналізовано кінетику розпорошення адсорбованих шарів кисню, що одержані на очищеній йонним пучком поверхні тонких металевих плівок Nb, Ti, Fe, Ni і Cu товщиною 100 нм в широкому діапазоні доз опромінення йонами Ar + з енергією 4 кеВ.Встановлено закономірності зміни адсорбційної здатності поверхні після тривалого бомбардування в залежності від природи металу.Запропоновано механізм ефекту пасивації поверхні плівок в результаті

查看译文

关键词

Secondary Ion Mass Spectrometry,Swift Heavy Ions

AI 理解论文

溯源树

样例

生成溯源树，研究论文发展脉络

Chat Paper

正在生成论文摘要