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Manufacturing assessment of sub 100 nm features in Si/SiO2 substrates based on EVG nanoimprint solution for 8 inch substrates

Hubert Teyssèdre,Florian Delachat, Manuela Stirner,Jonas Khan, Alain, Campo, Fabrice Kouemeni Tchouake,Peter Ledel,Mustapha Chouiki

semanticscholar（2019）

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