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The Determining Role of the (HF 2 ) – Ion in the Formation of Pores in Silicon in Its Electrochemical Etching with Hydrofluoric Acid Solutions

E. N. Abramova,A. M. Khort,A. G. Yakovenko,E. A. Slipchenko, D. S. Kornilova, M. V. Tsygankova,V. I. Shvets

Russian Journal of Inorganic Chemistry（2018）

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摘要
A model of the chemical interaction of Si with the (HF2)– ion was propsoed to explain some experimental data on the formation of porous silicon.
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