溅射法制备纳米薄膜材料及进展
Semiconductor Technology（2004）
Abstract
溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能纳米材料的重要手段.本文介绍了离子束溅射和磁控溅射技术的基本原理、方法及其在制备纳米材料中的应用和优点,以国内外这方面的最新进展.文章最后对我国纳米材料今后的应用及发展前景进行了展望.
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thin films,nano
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