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27pEB-6 高強度XUVレーザーパルス照射によるHeの3光子2電子励起過程におけるパルス幅依存性(27pEB 合同B:領域1(原子分子)・ビーム物理(高強度レーザー・FEL・放射光),ビーム物理領域)

亨 森下, Chiennan Liu,明栄 菱川

mag（2013）

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