300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)智洋 北, 裕一朗 田主, 匡樹 奈良, 秀 平野,宗博 外山, 三好 関, 圭二 越野,信幸 横山,実 大塚, 曜宣 杉山,栄一 石塚,作 佐野,剛 堀川,博仁 山田mag（2013）引用 23|浏览2暂无评分AI 理解论文溯源树样例生成溯源树，研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要
