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在清言上使用

C-11-3 Buried Gate type SGTの試作プロセス(C-11.シリコン材料・デバイス)

岳之 北川, 裕之 網川,貴士 泉田, 修平 大津,広記 中村,弘 桜庭,富士雄 舛岡

mag(2004)

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