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在清言上使用

26pKA-10 収差補正HRTEMを用いた3C-SiC/Si(001)界面における積層欠陥の解析(格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

mag(2013)

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