密度変調Low-k膜を用いた32nm世代対応Cu配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)宗弘 多田,博規 山本,文則 伊藤,充 成広,誠 植木,尚也 井上,真理 阿部,忍 斉藤,常雄 竹内,直也 古武,貴弘 小野寺,潤 川原,佳子 笠間,稔二 泰地,誠人 戸原,誠 関根,喜宏 林siam international conference on data mining(2007)引用 23|浏览8暂无评分AI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要