谷歌浏览器插件
订阅小程序
在清言上使用
VIPCreated with Sketch.

32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))

正人 小山,正浩 小池,雄一 上牟田,正道 鈴木,光介 辰村,義規 土屋,玲華 市原,正和 後藤,浩二 長友,篤志 東,繁 川中,一明 中嶋,克行 関根

siam international conference on data mining（2007）

引用 23|浏览10
暂无评分
AI 理解论文
溯源树
样例
生成溯源树，研究论文发展脉络
Chat Paper
正在生成论文摘要