高NA(1.07)液浸リソグラフィ技術を用いた45nm世代高性能システムLSIプラットフォーム技術(CMOS6)( IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
英明 新居,朋也 佐貫,康則 岡山,和伸 太田,俊幸 岩本,剛 藤巻,泰巳 木村,竜二 渡辺,泰生 菰田,亜弓 英保,恒 相川,理恵 山口,類 森本,亮介 大島,孝司 横山,拓治 松本,清太 鉢峰,康則 十河,誠也 志野,貞夫 金井,崇 山崎,誠司 高橋,英訓 前田,敏彦 岩田,圭一 大野,陽一 竹川,要 大石,光洋 東郷,克彦 深作,靖夫 高須,博之 山崎,英幹 猪熊,浩二 松尾,力 佐藤,正志 中澤,孝浩 片桐,圭一 中澤,卓 新山,友樹 手塚,繁 藤田,恵永 香川,弘二郎 長岡,諭 村松,誠一 岩佐,省二 三本木,健司 吉田,一正 須之内,正明 岩井,正樹 斉藤,昌弘 池田,容幸 榎本,宏 成瀬,清隆 今井,誠司 山田,直樹 長島,孝明 桑田,史倫 松岡 siam international conference on data mining(2007)
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