32nm世代以降に向けた高性能Two-step Recessed SiGe-S/D構造pMOSFET( シリコン関連材料の作製と評価)信昭 安武,達也 石田,和也 大内,伸俊 青木,直樹 楠,伸二 森,一郎 水島,哲 諸岡,勝典 矢橋,繁 川中,篤志 東,一成 石丸,義明 豊島siam international conference on data mining(2006)引用 23|浏览4暂无评分关键词two-stepAI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要