不同注入剂量和能量对氧化钛薄膜结构的影响

WANG Jinbiao,YANG Ping,LI Guicai,CHEN Jiang,SUN Hong,HUANG Nan

Xinan Jiaotong Daxue Xuebao/Journal of Southwest Jiaotong University（2010）

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摘要

为研究离子注入以及真空退火对氧化钛薄膜的结构和性能影响,利用非平衡磁控溅射技术,在单晶硅基体上沉积得到了金红石氧化钛薄膜,在此基础上注入磷离子,并进行真空退火处理.研究结果表明:注入剂量和能量的增加,使得氧化钛薄膜的晶体结构损伤程度加剧; 真空退火后,未注入与离子注入的薄膜Raman峰均出现红移和加宽现象,薄膜能带结构因氧缺位及低价钛而产生的变化,导致薄膜的方块电阻逐渐降低,电阻可降至100～200 Ω/cm2.

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关键词

Energy band structure,Ion implantation,Oxygen defects,Sheet resistance,Titanium oxide film

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